Roth & Rau AG: 20 % Wirkungsgrad auf 156mm Wafergrösse mit neuer Roth & Rau Hocheffizienztechnologie

06.09.2011, Auf der PVSEC Photovoltaik Konferenz wird die Roth & Rau AG in dieser Woche die aktuellen Entwicklungsergebnisse vorstellen, die in der Roth & Rau-Forschungslinie und der Pilotlinie erreicht wurden. Das Unternehmen entwickelt seit Mai 2008 Hocheffizienz- Solarzellen basierend auf der Hetero-Junction-Technologie und schloss dazu eine Kooperation mit EPFL/IMT an der Université de Neuchâtel. In der Zwischenzeit wurden gemeinsam die damaligen Forschungsergebnisse des Instituts in industrielle Prozesse überführt und systematisch weiterentwickelt.

In der Forschungslinie der Roth & Rau Switzerland AG wurde weltweit erstmals auf 156mm industriellen monokristallinen Silizium-Wafern mit der Hetero-Junction-Technologie 20 % Wirkungsgrad erreicht. Die Pilotlinie in Hohenstein-Ernstthal, in der die Prozesse bereits auf Massenproduktionsanlagen skaliert werden, kann ebenfalls hervorragende Ergebnisse aufweisen, die an der PVSEC Konferenz präsentiert werden. „Der hohe Wirkungsgrad der Hetero-Junction-Technologie kombiniert mit dem hervorragenden Temperaturkoeffizienten (>
5 % zusätzlicher Energieertrag pro Modul) adressieren die entscheidenden Kostenhebel der Photovoltaik. „Es freut mich, dass es Roth & Rau in so kurzer Zeit gelungen ist, diese Technologie aus der Forschung zur Produktionsreife zu bringen“, kommentiert Dr. Dietmar Roth, Vorstandsvorsitzender der Roth & Rau AG, den aktuellen Fortgang des Projekts.

Die Hetero-Junction-Technologie ist eine bereits bekannte Technologie, die bis heute aber erst von einer einzigen Firma industriell genutzt wird. Hetero-Junction-Zellen basieren auf einem Niedertemperatur-Herstellkonzept. Sie zeichnen sich durch eine hervorragende Passivierung aus, welche zu sehr hohen Wirkungsgraden und ausgezeichnetem Temperaturverhalten führt. Diese Hocheffizienztechnologie bietet damit Roth & Rau-Kunden die Möglichkeit in ihren Erweiterungsinvestitionen entscheidende Kosteneinsparungen zu realisieren und sichert Roth & Rau die Führerschaft in diesem attraktiven Marktsegment für Produktionsanlagen.


Medienkontakt:
Roth & Rau AG An der Baumschule 6-8 09337 Hohenstein-Ernstthal Tel. 049 37 23 66 85 0 Fax 049 37 23 66 85 1000 Mail: info@roth-rau.com

Über Roth & Rau AG:

Die Roth & Rau AG mit Sitz in Hohenstein-Ernstthal (ISIN DE000A0JCZ51) ist einer der weltweit führenden Anbieter von Technologien und Produktionsequipment für die Photovoltaikindustrie. Im Geschäftsbereich Photovoltaik (PV) bietet Roth & Rau vor allem Antireflexbeschichtungsanlagen sowie vollautomatisierte Produktionslinien (Turnkey-Produktionslinien) für die Herstellung von kristallinen Silizium-Solarzellen an.

Einen weiteren Schwerpunkt bildet die Fertigung von Beschichtungsanlagen und Turnkey-Produktionslinien zur Herstellung von Dünnschichtsolarmodulen. Im zweiten Geschäftsbereich Plasma- und Ionenstrahltechnologie (PIB) produziert die Gesellschaft Plasma- und Ionenquellen sowie Prozesssysteme für plasma- und ionenstrahlgestützte Dünnschicht- und Oberflächenbearbeitungsverfahren. Kunden sind in diesem Geschäftsbereich insbesondere Unternehmen der Halbleiterindustrie, Forschungs- und Entwicklungsabteilungen verschiedener anderer industrieller Branchen einschliesslich der Photovoltaik sowie Forschungsinstitute und Universitäten. Der dritte Geschäftsbereich Sonstige umfasst das Wartungs- und Servicegeschäft, Softwareprodukte und weitere Produkte und Dienstleistungen.

Die Roth & Rau AG erzielte im Geschäftsjahr 2008 nach IFRS ein EBIT von 28,5 Mio. € bei einem Umsatz von 272,1 Mio. € und beschäftigte zum 31. Dezember 2008 606 Mitarbeiter. Im ersten Halbjahr 2009 beliefen sich der Umsatz auf 117,0 Mio. Euro und das EBIT auf 12,0 Mio. Euro. Die Mitarbeiterzahl erhöhte sich zum 30. Juni 009 auf 729.

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