SÜSS MicroTec und GenISys verkünden Kooperation bei Lithografie Simulationssoftware für Mask Aligner

21.02.2012, Garching, Deutschland, 21.02.2012 - SÜSS MicroTec, führender Hersteller von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und die GenISys GmbH, Hersteller von Softwareprodukten im Bereich Nanotechnologie, haben heute ihre Zusammenarbeit bei der Lithografie Simulationssoftware Layout LABTM von GenISys mit Mask Alignern von SÜSS MicroTec bekannt gegeben.

Im Rahmen dieser Kooperation wurde die Layout LABTM Software erweitert, um alle derzeit verfügbaren SÜSS MicroTec Mask Aligner Belichtungsoptiken zu modellieren. Beide Partner kombinieren ihre Anstrengungen, die SÜSS Mask Aligner Technologie mit der Simulationssoftware Layout LABTM von GenISys gemeinsam zu vermarkten. Die Kombination von Lithografiegeräten und zugehöriger Simulationssoftware ist ein weiterer Erfolgsfaktor für eine kosteneffektive Prozess- und Produktentwicklung bei den Endkunden.

'Die neueste und fortschrittlichste Belichtungsoptik von SÜSS MicroTec, MO Exposure Optics, ermöglicht den Einsatz von Technologien aus dem Frontend, wie beispielsweise einer Optimierung der Beleuchtung und des Maskenlayouts', sagt Frank P. Averdung, Vorstandsvorsitzender der SÜSS MicroTec AG. 'Diese ermöglicht in Kombination mit der GenISys Simulationssoftware neue Technologieansätze, wobei die komplexe Auswahl aus einer Vielzahl verschiedenster Lichtquellen und -formen durch die Simulationsergebnisse erheblich vereinfacht werden kann.'

'Layout LABTM ist eine professionelle 3D Simulationsplattform für optische Proximity Lithografie, mit deren Hilfe eine große Anzahl von Simulationen quasi über Nacht durchgeführt werden kann. Dies ermöglicht eine Optimierung des Maskenlayouts und der Belichtungsbedingungen. Neben den Kosteneinsparungen hilft dies unseren Kunden die Zeit zur Markteinführung zu verkürzen', sagt Nezih Unal, Vice President der GenISys GmbH.


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Über Süss MicroTec AG:

Die SÜSS MicroTec-Gruppe entwickelt und fertigt Prozesslösungen für Mikrostrukturanwendungen - ein Bereich, in dem SÜSS MicroTec über mehr als sechzig Jahre Erfahrung verfügt.

Das Angebot an Lösungen umfasst alle leistungsrelevanten Arbeitsschritte der Waferbearbeitung von der Belackung, Aushärtung und Entwicklung über die Justage bis hin zum Bonden der Wafer. Hinzu kommen hochspezialisierte Zusatzausrüstungen wie Fotomasken, Lithografie-Tools für das Nanoimprinting und optische Linsen.

Ob Herstellung von Speicherchips, Kameras für Mobiltelefone oder Reifendrucksensoren - die Lösungen von SÜSS MicroTec werden innerhalb eines breiten Spektrums von Herstellungsprozessen für Alltags- oder Industrieanwendungen eingesetzt. Kunden aus der Halbleiterindustrie und verwandten Märkten wie MEMS und LED-Anwendungen schätzen insbesondere unsere umfassende Erfahrung in der Waferbearbeitung. Dies macht SÜSS MicroTec zu einem zuverlässigen Partner für die Grossserienproduktion und für die Forschung und Entwicklung.

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